發(fā)布時(shí)間：2023-08-11 瀏覽次數：1890
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設備簡(jiǎn)介：
PECVD（等離子增強化學(xué)氣相沉積）技術(shù)是借助于等離子體的輝光放電使得含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應，從而實(shí)現薄膜生長(cháng)的一種制備技術(shù)，主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉積；高溫爐采用的是高純硅碳棒加熱的原理，可以實(shí)現高溫燒結，適用于大多數材料的熱處理以及熔煉工藝，整體采用國際先進(jìn)制造工藝，并且從美學(xué)藝術(shù)角度出發(fā)，根據人體安全的角度進(jìn)行設計。它采用PLC控制，觸摸屏操作。
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配置詳情
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主要特點(diǎn)：
1、高溫燒結。 2、控制穩定可靠，操作方便，安全防護措施完善。 3、采用先進(jìn)的PID自學(xué)習模糊控制，控溫精度高，保持在±1℃。 4、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料，保溫效果更好，節能降耗。 5、具有物聯(lián)網(wǎng)功能（WIFI），可通過(guò)手機、電腦遠程對設備進(jìn)行監控，操作。 6、數據存儲功能，可保存燒結的重要參數，時(shí)長(cháng)達30天之久（每天開(kāi)機8小時(shí)）。 7、配方功能，可預存配方20條以上。 8、聯(lián)網(wǎng)功能，通過(guò)RJ45接口，采用TCP/IP協(xié)議，可以讓系統與上位機相連（上位機需安裝相應軟件）。
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型號 |
NBD-PECVD1500-80TID3ZY |
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供電電源 |
單相220V 50HZ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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觸摸屏尺寸 |
7" |
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射頻頻率 |
13.56MHz |
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射頻功率輸出范圍 |
0-500W |
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沉積加熱額定功率 |
3KW |
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傳感器類(lèi)型 |
S 型φ8*180mm |
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沉積最高溫度 |
1500℃ |
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沉積額定溫度 |
1450℃ |
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推薦升溫速率 |
≤5℃/min |
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爐管材質(zhì)及規格 |
剛玉Φ80*1200mm 外徑*長(cháng)度（厚度） |
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沉積管徑 |
Φ80mm*1200mm |
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爐膛尺寸 |
單個(gè)溫區長(cháng)175*高160*深140mm |
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PECVD外形尺寸 |
長(cháng)1500×高1350×深830mm |
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氣氛條件 |
混合氣、真空等 |
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滑動(dòng)方式 |
電機驅動(dòng)同步帶 |
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電機轉速 |
3-4轉每分鐘 |
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一轉行程 |
114mm |
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推拉最大行程 |
340mm 爐膛中心到線(xiàn)圈中心的距離 |
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機械泵抽氣速率 |
5m3/h |
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爐腔極限真空度 |
3~5Pa |
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重量 |
約240KG |
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設備細節 |
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流程控制畫(huà)面
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控制系統 |
1、燒結工藝曲線(xiàn)設置：動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn)，設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn)，每條工藝曲線(xiàn)可自由設置；
2、可預約燒結，實(shí)現無(wú)人值守燒結工藝曲線(xiàn)燒結；
3、實(shí)時(shí)顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據，并可導出實(shí)現無(wú)紙記錄；
4、具有實(shí)現遠程操控，實(shí)時(shí)觀(guān)測設備狀態(tài)；
5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結全程進(jìn)行非線(xiàn)性修正。
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| 重量 |
約240KG |
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設備使用注意事項 |
1. 射頻匹配器一般處于自動(dòng)匹配狀態(tài)，一般功率需達到50W以上才能匹配； |
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服務(wù)支持 |
一年有限保修，提供終身支持； |
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