發(fā)布時(shí)間:2020-09-17 瀏覽次數:4126
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設備簡(jiǎn)介: 非自耗式電弧熔煉爐主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、4工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、磁力攪拌、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。 |
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配置詳情
系統的技術(shù)指標 |
1. 極限真空:5.0x10-4Pa; 2. 系統漏率小于5.0x10-8Pa.l/S; 3. 系統從大氣開(kāi)始抽氣,20分鐘可達到5x10-3 Pa; 4. 停泵12小時(shí)后真空度≤30Pa. 5. 熔煉最高溫度達3000℃ |
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產(chǎn)品型號 |
NBD-VAP3000-35 |
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電弧熔煉真空室組件 |
立式圓筒型真空室尺寸:φ280mmX350mm,前開(kāi)門(mén),雙層水冷結構,選用不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面電化學(xué)拋光處理,接口采用金屬墊圈或氟橡膠圈密封。
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真空室上蓋組件 |
1. 電弧槍接口1個(gè)(電弧熔煉陰極); 2. 真空壓力表接口法蘭1個(gè); |
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電弧熔煉陰極組件 |
水冷電動(dòng)電弧槍?zhuān)?套(引弧方式為非接觸) |
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水冷銅坩堝組件 |
電弧熔煉陽(yáng)極有4~6個(gè)工位,工位(30mm),一個(gè)熔煉除氣工位(20mm);熔煉樣品重量(以Fe標定):樣品最大重量50克; |
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機械手組件 |
用于真空下翻轉合金錠;機械手組件有水冷裝置。 |
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窗口及法蘭接口部件 |
1. φ50弧光自動(dòng)防護裝置; 2. LED照明窗; 3. 觀(guān)察窗接管處設有水冷裝置。 |
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工作本底真空獲得 |
分子泵+機械泵 |
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安裝機臺架及水路組件 |
1. 優(yōu)質(zhì)方鋼型材(40mmX40mm X4)焊接成,圍板表面噴塑處理;機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾;四只腳輪,可固定,可移動(dòng); 2. 電纜支架; 3. 水管及進(jìn)、回水器; 4. 水流繼電器 |
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現場(chǎng)安裝要求 |
1.電源380V 50Hz 功率大于10KW,波動(dòng)范圍:小于±6%,配置多路接線(xiàn)插座; 2.可靠地線(xiàn),對地電阻小于2Ω; 3.具有民用自來(lái)水或循環(huán)冷卻水,水溫小于25℃,水壓小于2.5×105Pa,流量要求達到12升/分鐘,及回水通道; 4.安裝場(chǎng)地面積大于3M2,高度要求高于2.4M; 5.要求安裝場(chǎng)地的標準溫度為20℃~24℃,標準相對濕度為50%~60%; 6.要求有普通氮氣,壓強要在2~3個(gè)大氣壓之間; 7.外排廢氣管道。 |
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