發(fā)布時(shí)間：2020-07-25 瀏覽次數：3524
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設備簡(jiǎn)介：
雙溫區的PECVD管式爐系統，組成部分為500W的射頻發(fā)生器、可定位的獨立滑動(dòng)式燒結爐、高精度質(zhì)量流量混合系統、穩定防反油真空系統。此款PECVD可用于生長(cháng)納米線(xiàn)或用CVD方法來(lái)制作各種薄膜。
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配置詳情
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主要特點(diǎn)：
1. 清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染； |
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產(chǎn)品型號 |
NBD-PECVD1200-50T2-N |
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電氣規格 |
AC220V 3KW 射頻功率：300或500瓦 13.56Mhz |
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| 可達溫度 |
1200 ℃ （<1小時(shí)） |
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連續溫度 |
1100 ℃ （連續） |
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可達加熱速率 |
≤20 ℃/分鐘 |
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加熱區長(cháng)度 |
200mm+200mm（兩個(gè)加熱溫區分別加熱，分體式設計使溫度梯度可以達到極限） |
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爐管尺寸 |
Φ50*1800mm |
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射頻線(xiàn)圈 |
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